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近日，工信部发布了《首台（套）紧要时候装备实践讹诈指引目次（2024年版）》，其中透露，集成电路开发方面，中国已研发得胜氟化氩光刻机，光源193纳米，离别率≤65nm，套刻≤8nm。那么，这是什么含义呢？其实还有喜有忧。

工信部其实是见告一个伏击信息，即国产光刻机时候赢得了内容性高出。光刻精度主要看的是光刻机的离别率，65nm的离别率，那么单次曝光能够达到的工艺制程节点好像就在65nm操纵，是以，工信部的音讯其实意味着国产光刻机仍是已毕了65纳米工艺的紧要松弛。可千万别轻篾这个高出，最近，荷兰罢职好意思国的意图，限度光科技巨头阿斯麦公司向中国出售NXT：1970 和 NXT：1980这两款光刻机，等于挑升卡在65纳米工艺上了，中国宣告光刻机松弛65纳米，好意思国的这个卡脖子计谋也就没意旨了，这等于喜的处所。

忧的处所是，还莫得业内企业说见到了这个光刻机。中国首台（套）紧要时候装备是指国内已毕紧要时候松弛、领有学问产权、尚未赢得明显阛阓功绩的装备产物，包括整机开发、中枢系统和要道零部件等。也等于说，这个65纳米工艺的国产光刻机还没到“赢得明显阛阓功绩”的阶段，不知中芯海外之后是否会购买并大界限使用。

中国固然攻克了65纳米工艺的光刻机，但距离海外先进水平还收支多远呢？执行上，荷兰阿斯麦公司2006年推出的干式DUV光刻机XT：1450的离别率就仍是达到了57nm，套刻精度为7nm。是以，65纳米的国产DUV光刻机性能与阿斯麦公司的时候执行差距卓越18年，好意思国限度向中国出售的NXT：1970光刻机亦然2007年就已推出的，17年前的老款光刻机王人对中国不盛开，可见好意思国对中国果真羞耻到家了，但这回泡汤了。

（拖累剪辑：韩丽）

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